In einer Anwendung der Halbleiterindustrie musste eine Bewegungsfunktion für die Waferreinigung unter hohen Anforderungen an Reinheit, Prozessstabilität und Wiederholgenauigkeit umgesetzt werden. Durch eine an die Reinigungszelle angepasste Antriebslösung konnte eine reproduzierbare Bewegungsausführung in einem sensiblen Prozessumfeld realisiert werden.

Im Bereich der Waferreinigung werden sämtliche Bewegungsabläufe unmittelbar durch die Anforderungen des Prozesses bestimmt. Reinigungs- und Trocknungssequenzen müssen stabil, gleichförmig und wiederholbar ablaufen, da bereits geringe Abweichungen die Prozessqualität beeinträchtigen können. Gleichzeitig dürfen durch die eingesetzte Antriebstechnik keine zusätzlichen Kontaminationsrisiken, keine unnötigen Schwingungen und keine instabilen Bewegungsverläufe in die Anlage eingebracht werden.

Gefordert war eine Antriebslösung, die in einer prozessnahen Reinigungsumgebung präzise und dauerhaft stabil arbeitet. Gleichzeitig mussten hohe Anforderungen an die Wiederholgenauigkeit, an die Integrationsfähigkeit in die bestehende Anlagenarchitektur sowie an ein kontaminationsarmes Systemdesign erfüllt werden. Zusätzlich war sicherzustellen, dass die Bewegungsprofile reproduzierbar parametriert und prozessseitig sauber auf die Reinigungssequenz abgestimmt werden können.

Umgesetzt wurde eine kompakte, anwendungsspezifisch ausgelegte Antriebslösung für die Bewegungsachsen innerhalb der Waferreinigung. Die mechanische Auslegung, die Schnittstellen und die Regelungsparameter wurden auf die Anforderungen der Reinigungszelle abgestimmt. Dadurch konnte eine gleichmäßige und kontrollierte Bewegungsausführung innerhalb des Prozesses sichergestellt werden. Gleichzeitig wurde die Integration so ausgeführt, dass die Lösung in die bestehende Maschinenarchitektur eingebunden werden konnte, ohne zusätzliche Komplexität im Gesamtsystem zu erzeugen.